一、材料数据库（Material database ）
材料数据库允许你管理（创建、修改、删除）模仿计算采用的材料。
在每个模仿计算的文件中有数据库的一个拷贝。一个文件中的数据库发生变革时不会影响另一个文件中的数据库。要修改创建一个新工程时出现的默认材料，编辑安装目次的默认子目次中的模仿文件。
① 输入/输出（Import / Export）
采用“输入和输出”按钮可以在模仿文件和数据库文件（.mdf)）之间传输材料数据。
② 材料列表（Material list）
材料列表表现材料数据库中的材料。软件安装时已经提供了大量材料。要增加材料，使用“增加（Add）”按钮。你同样可以在列表视图中修改材料的某些性质（名称、颜色、网格次序等）。
软件安装时提供的默认材料为写保护，你不能直接修改。要修改一个默认材料，使用“拷贝 （Copy）”按钮复制材料。拷贝的复件是解锁的。列表第一列表现材料的写保护。
当前模仿计算使用的材料不能被删除。列表的第 2 列表现正在使用的材料。要删除这些材料，首先要修改模仿计算设置以取消对应材料的使用。
③ 材料属性（Material Properties）
在“材料属性”窗口可以欣赏和编辑材料模型参数。
二、介电常数模型（Permittivity models）
可以在材料数据库窗口的材料属性面板修改模型参数。
1、采样数据模型（Sampled data）
采样数据模型采样输入的材料实验数据。用输入数据按钮 可以输入文本文件中的实验数据。
采样数据材料限定采用主动拟合程序 在指定的光源频率范围内创建实验数据的多系数材料模型。 拟合程序可采用下述的一个大概多个模式创建模型。在材料欣赏器可查抄和调整拟合（fits ）。
容差法（Tolerance）- 介电常数实验数据和材料拟合之间的均方根（RMS）误差，拟合程序将用最少的系数创建均方根误差小于容差的拟合。
最大系数法（Max coefficients ）- 材料拟合看采用最大系数法。系数越多得到的拟合结果越准确，但会使模仿计算变慢。
在材料欣赏器可设定下列高级选项：
Make Fit Passive - 选择后，可避免拟合产生频率增益。默以为选择，如允许以防止出现发散的模仿计算。 Improve Stability - 如果选择，在拟合时拟合程序会限制系数范围有，以便降低会导致模仿发散的数字不稳定性。 Imaginary Weight - 数据拟合时，增大本权重会增加介电常数虚部的权。设定为 1 时，介电常数虚部和实部的权重相等。 Specify Fit Range - 选择后，解耦创建材料拟合的带宽和光源带宽。当光源频率变革后举行参数扫描时，以及在整个参数扫描过程必须包管材料的参数为常数时选择本选项。拟合范围应当覆盖模仿计算的带宽。 Bandwidth range - 当“ Specify Fit Range”选项被选择后，带宽用来举行数据拟合。
2、电介质模型（Dielectric）
电介质模型用来创建具有常实数反射率的材料。在整个频率范围材料具有指定的反射率（无发散）。Refractive index - 材料的反射率，必须 ≥1。
3、(n,k) 材料模型（(n,k) material）
(n,k)材料模型用来创建在单一频率有特定 n 和 k 值的材料。
Refractive index - 在模仿中心频率时的反射率的实部。必须 > 0。 Imaginary refractive index - 在模仿中心频率时的反射率的虚部。正值对应于损失增益，负 值对应于产生增益。 4、导电模型（Conductive） 导电模型按下式创建材料。
5、等离子体（德鲁特）模型（Plasma (Drude))
等离子体模型按下式创建材料。
6、德拜模型（Debye）
德拜模型按下式创建材料。
7、洛伦兹模型（Lorentz）
洛伦兹模型按下式创建材料（ε>0）。
8、塞耳迈尔模型（Sellmeier）
塞耳迈尔模型按下式创建材料。系数 C 的量纲是平方微米。
9、理想导电体（PEC）
一种理想导电体（PEC）。这种材料将场设定为 0。这种模型无参数。
10、分析材料模型（Analytic material）
在分析模型下，用户可写入计算介电常数或反射率实部和虚部的计算方程，方程采用下表给出的预界说变量。
11、克尔非线性模型（Kerr nonlinear）
在克尔非线性模型中，电极化场 P 同电场 E 的关系如下：
电位移场 D 的计算方程为：
三、材料欣赏器（Material explorer）
材料欣赏器用来查抄将用在模仿计算的材料拟合结果。当采用采样材料模型时这黑白常重要的， 材料欣赏器可用来检察全部材料模型中的材料属性。 如果采样数据材料的拟合不敷好，可以在材料欣赏器编辑容差和最大系数属性、以及光源的波长范围。
3.1 绘图窗口（Plot windows）
材料欣赏器窗口顶部的两个图形表现的是材料反射率的实部和虚部
① 材料设定（Material settings）
| 属性 | 描述 | | Material | 选择要查抄的材料。 | | Axis | 如果材料是各向异性的，选择本选项。 | | Fit Tolerance | 材料容差设定，仅用在拟合的材料。 | | Max Coefficients | 材料最大系数设定，仅用在拟合的材料。 | | Show/Hide Advanced | 表现大概隐藏高级选项 | | Imaginary weight | 举行拟合计算时，增大权重会增加介电常数虚部的权。权重设定为 1 时， 介电常数虚部和实部权重相等。 | | Make fit passive | 选择后，可防止材料拟合在任何频率不会出现增益。默认时是选择的，是为了防止出现发散模仿计算。 | | Improve stability | 选择用来限制材料拟合的系数范围，以降低引起模仿发散的数字不稳定性。 | | Specify fit range | 去除创建材料拟合采用的带宽和光源带宽之间的偶合。 | | Bandwidth range of fit | 如果选择了“specify fit range”后，为拟合计算的频率/波长范围。拟合带宽应覆盖模仿计算的带宽。 | | Save fit parameters | 用新容差和最大系数值刷新数据库 |
② 模仿带宽设置（Simulation bandwidth settings）
| 属性 | 描述 | | range | 频率/波长范围，默认时，是光源的限定。 | | Save bandwidth and settings | 用这些数据刷新光源的限定。 |
③ 视图设置（View settings）
| 属性 | 描述 | | Vertical axis | 绘制介电常数或反射率 | | Show material data | 在绘图窗口表现实验数据 | | Standard view | 在指定带宽范围绘制拟合曲线 | | Extended view range | 在比带宽更大范围绘制拟合结果 | | Specify view range | 指定绘制拟合结果的范围 |
④ 拟合和绘图按钮（Fit and plot buttons）
| 属性 | 描述 | | Plot in new window | 在一个新窗口绘制数据 | | Fit and Plot | 计算和绘制材料拟合结果 |
⑤ 拟合分析（Fit analysis）
| 属性 | 描述 | | RMS error | 拟合的均方差误差，拟合算法将采用最少的系数来满意 RMS 的误差小于材料容差属性的指定值。 | | Number of coefficients | 拟合计算的系数个数 |
四、网格次序（Mesh order）
网格属性支持模仿计算式如何对重叠的实体对象（物件）举行网格划分。对于没有重叠的物件不起作用。可以在材料级别（在材料数据库）大概实体对象的物件级别（在物件属性）来设定网格次序。
具有低网格次序的材料的优先级别高于较高网格次序的材料（例如，次序为 1 优先于次序为 2 的材料）。覆盖区域分配给有较高优先权材料的材料属性（看下图）。
当两个相互重叠的材料有相同的次序时，网格次序将参考实体对象树。处于底部的物件有较大的优先权。为包管能很好的界说模仿计算，发起对有重叠的两个差别物件不要用相同的网格次序。
默认环境下，在材料数据库中的大部分材料的网格次序为 2。唯一的例外的材料就是 etch，其网格次序为 1。低网格次序就意味着，使用 etch 材料的物件将覆盖其它材料的物件。
免责声明：如果侵犯了您的权益，请联系站长，我们会及时删除侵权内容，谢谢合作！更多信息从访问主页：qidao123.com:ToB企服之家，中国第一个企服评测及商务社交产业平台。 |
