图像处置惩罚ASIC计划方法 笔记26 非匀称性校正SOC如何计划 ...

在红外成像技术范畴，非匀称性校正是一个至关重要的环节，它直接影响到成像体系的性能和目标检测识别的正确性。非匀称性是指红外焦平面阵列（IRFPA）中各个像元对同一辐射强度的相应不一致的征象，这种不一致性大概是由于制造过程中的缺陷、材料的不匀称性大概像元间的热电特性差别造成的。为了提升红外成像体系的性能，必须对这种非匀称性进行有用的校正。本文将具体先容红外焦平面非匀称性校正的背景、挑战、计划目标以及实现方法。

• 非匀称性校正的背景与挑战
  

红外焦平面阵列（IRFPA）的非匀称性题目，有多种多种非匀称性校正算法可以解决，主要分为两大类：基于定标的校正算法和基于场景的自顺应校正算法。
1.1 基于定标的校正算法
基于定标的校正算法是一种传统的校正方法，它通过周期性地对红外焦平面进行定标，来测定各个像元的相应参数，并以此参数对实时图像进行校正。这种方法虽然在理论上能够提供较为正确的校正结果，但在现实应用中存在一些局限性：

• 相应漂移和1/f噪声题目：定标算法无法有用解决IRFPA的相应漂移和1/f噪声题目，这些噪声会随着时间的增长而累积，影响成像质量。
  
  
• 周期性定标的需求：需要定期进行定标，这不仅增长了装备的复杂性，也限定了其在机载与弹载等快速反应场合的应用。
  
  
• 装备装置的复杂性：为了进行周期性定标，需要额外的定标装备，这增长了体系的体积和重量。
  

1.2 基于场景的自顺应校正算法


免责声明：如果侵犯了您的权益，请联系站长，我们会及时删除侵权内容，谢谢合作！更多信息从访问主页：qidao123.com:ToB企服之家，中国第一个企服评测及商务社交产业平台。